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记者27日从西湖大学获悉,由该校孵化的西湖仪器(杭州)技艺有限公司(以下简称“西湖仪器”)奏效斥地出12英寸碳化硅衬底自动化激光剥离技艺,惩办了12英寸及以上超大尺寸碳化硅衬底切片勤苦。
与传统的硅材料比拟,碳化硅具有更宽的禁带能隙以及更高的熔点、电子搬动率和热导率,可在高温、高电压条目下踏实职责,已成为新动力和半导体产业迭代升级的环节材料。
“现在,碳化硅衬底材料资本居高不下,严重羁系了碳化硅器件的大界限诈欺。”西湖大学工学院讲席讲明仇旻先容,碳化硅行业降本增效的过失路线之一,是制造更大尺寸的碳化硅衬底材料。与6英寸和8英寸衬底比拟,12英寸碳化硅衬底材料扩大了单片晶圆上可用于芯片制造的面积,在同等出产条目下,可权臣进步芯片产量,同期责难单元芯片制形资本。
据外洋巨擘商讨机构瞻望,到2027年,众人碳化硅功率器件市集界限将达67亿好意思元,年复合增长率达33.5%。旧年底,国内企业显露了最新一代12英寸碳化硅衬底。12英寸及以上超大尺寸碳化硅衬底切片需求随之出现。
此前,西湖仪器已当先推出8英寸导电型碳化硅衬底激光剥离树立。为反馈最新市集需求,西湖仪器赶快推出超大尺寸碳化硅衬底激光剥离技艺,将超快激光加工技艺诈欺于碳化硅衬底加工行业,完成了联系树立和集成系统的斥地。
“该技艺结束了碳化硅晶锭减薄、激光加工、衬底剥离等经由的自动化。”仇旻先容,与传统切割技艺比拟,激光剥离经由无材料损耗,原料损耗大幅着落。
仇旻说,新技艺可大幅责难衬底出片晌间,适用于明天超大尺寸碳化硅衬底的界限化量产,进一步促进行业降本增效。
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